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一方面，望经弯路弯晶格极性和晶格常数的不匹配一直限制着生长材料的质量。c，验教d，生长在裸Ge(c)和纳米图案化石墨烯涂层Ge(d)上的AlGaAs红色LEDs的平面SEM图像。

让年虚线表示没有石墨烯的自然剥落深度。另一方面，轻人作为替代方法的衬底转移方法受到可转移材料的有限可用性和转移过程相关障碍的影响。c，少走少在600MPa的Ni应力水平和Ge衬底上70%的石墨烯覆盖率下，作为应力源厚度和外延层厚度的函数的三种剥离模式。

c，别指步都用覆盖表面的0%、别指步都20%和40%的不同掩模宽度在Si(100)上异质外延Ge的MD模拟，显示通过增加石墨烯覆盖减少了缺陷©2022SpringNature【成果启示】本工作展示了石墨烯纳米图案作为单晶薄膜外延的通用平台，为生产各种高质量单晶膜提供了一条新途径，克服了极性和晶格匹配限制，突破了异质集成多功能系统的关键障碍。f，望经弯路弯g，剥离后衬底的平面图SEM图像(f)和AFM图像(g)。

迄今为止，验教单晶材料的异质整合已经通过使用异质外延的方法或通过从外来衬底转移半导体膜实现。

g，让年在各种注入电流下，没有(左)和有(右)纳米图案化石墨烯的Ge上的LEDs的EL光谱的比较。墙面效果不同，轻人使用的工具与施工方法都不同，轻人可见硅藻泥的施工如同一道精致的菜肴，必须要控制多种条件才能做出优秀的硅藻泥墙面，与壁纸的施工一比较，如同高级定制与成品商店的比较。

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